Product news
Zwei-Photonen-Lithographie-System
Feb 26, 2024
Unser Zwei-Photonen-Lithographiesystem Photonic Professional GT2 von Nanoscribe ermöglicht die additive Fertigung von Polymeren im Nano-, Meso- und Makrobereich von Polymeren basierend auf dem Prinzip der Zwei-Photonen-Absorption. Es kann verwendet werden, um kristallgitterartige, poröse oder bionische Strukturen, Hinterschneidungen, glatte Konturen und scharfe Kanten aus verschiedenen Polymeren erzeugen. Die Flexibilität, Vielseitigkeit und Geschwindigkeit, die dieses System bietet, erleichtert das Rapid Prototyping von Konzepten auf Substraten, die von Wafern bis zu MEMS reichen.
Anwendungen:
* Optische Oberflächen und Strukturen
* Mikrofluidik
* Photonische und mechanische Metamaterialien
* Urformen für NIL
Besuchen Sie uns in Halle 1 am Fraunhofer IPMS Stand 317.
